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磁控濺射儀 SSG-200A

磁控濺射儀 SSG-200A

鍍膜儀器
提高觀察效果
可同時(shí)處理大批量樣品
在封閉腔室中，放置陽極靶材，充入氣體，保持一定的真空度，在陽極和陰極之間加載高壓，會(huì)發(fā)生輝光放電現(xiàn)象。電離的氣體離子會(huì)轟擊、侵蝕陽極靶材。靶材原子會(huì)因此向四周擴(kuò)散，在磁力的束縛下在一定范圍內(nèi)沉積，最終在樣品表面形成一個(gè)均勻的鍍層。這個(gè)鍍層可以抑制荷電，減小熱損傷，提高二次電子產(chǎn)率，從而改善掃描電鏡觀察效果。平時(shí)使用時(shí)，最常見靶材的是金靶。正是這個(gè)原因，離子濺射儀也俗稱“噴金儀”。然而，為了獲得更細(xì)小的晶粒尺寸、更薄的連續(xù)鍍層，有時(shí)候也會(huì)使用其他靶材（比如鉻、鉑金、銅）。
全國服務(wù)熱線
400-8866-090
留言資訊
  • 產(chǎn)品概述
  • 技術(shù)參數(shù)
  • 選型指南
  • 視頻介紹

磁控濺射儀 SSG-200A

鍍膜儀器
提高觀察效果
可同時(shí)處理大批量樣品
在封閉腔室中，放置陽極靶材，充入氣體，保持一定的真空度，在陽極和陰極之間加載高壓，會(huì)發(fā)生輝光放電現(xiàn)象。電離的氣體離子會(huì)轟擊、侵蝕陽極靶材。靶材原子會(huì)因此向四周擴(kuò)散，在磁力的束縛下在一定范圍內(nèi)沉積，最終在樣品表面形成一個(gè)均勻的鍍層。這個(gè)鍍層可以抑制荷電，減小熱損傷，提高二次電子產(chǎn)率，從而改善掃描電鏡觀察效果。平時(shí)使用時(shí)，最常見靶材的是金靶。正是這個(gè)原因，離子濺射儀也俗稱“噴金儀”。然而，為了獲得更細(xì)小的晶粒尺寸、更薄的連續(xù)鍍層，有時(shí)候也會(huì)使用其他靶材（比如鉻、鉑金、銅）。
全國服務(wù)熱線
400-8866-090
留言資訊
磁控濺射儀 SSG-200A
產(chǎn)品概述

技術(shù)參數(shù)
配置
詳細(xì)參數(shù)說明
樣品腔尺寸
直徑300mm*高度130mm
低真空度
極限真空度：＜0.1Pa，工作真空度：0-10Pa
高真空度
極限真空度：＜10-3Pa，工作真空度：0.1-2Pa
靶材尺寸
規(guī)格：直徑57mmx0.1mm厚，數(shù)量：2個(gè)
樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速
4-20rmp
抽速
66L/min
濺射電流
1-500mA，連續(xù)可調(diào)
濺射時(shí)間
1-999s，連續(xù)可調(diào)
保護(hù)氣
氬氣
選型指南

選型指南

視頻介紹

視頻正在制作中...

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